Приэлектродные слои в несамостоятельном ВЧ разряде

На основе усредненного уравнения для профиля ионной концентрации анализируются процессы в приэлектродных слоях емкостного несамостоятельного ВЧ разряда при средних давлениях. Получены аналитические выражения для распределения концентрации вблизи границы плазмы. Результаты сравниваются с численными расчетами.