RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Журнал технической физики // Архив

ЖТФ, 1990, том 60, выпуск 10, страницы 37–41 (Mi jtf4017)

Газовый разряд, плазма

Особенности процесса рекомбинации свободных атомов кислорода O(${}^{3}P$) на электропроводящей поверхности стекла

Е. Е. Антонов, В. И. Попович


Аннотация: Обнаружена зависимость скорости гетерогенной рекомбинации атомов O(${}^{3}P$) от концентрации подвижных ионов щелочных металлов вблизи поверхности стекла, что может быть связано с эффективной передачей энергии, выделяющейся в акте рекомбинации, ионной подсистеме стекла. Установлен механизм влияния плазмы на скорость этой реакции. Предложен механизм тепловой неустойчивости, связанной с влиянием плазмы на скорость рекомбинации атомов O(${}^{3}P$).



Реферативные базы данных:


© МИАН, 2025