Аннотация:
Подробно исследуется проблема создания планарных
электродиффузионных Cs$^{+}$ волноводов и влияние различных способов
электродиффузии на профиль показателя преломления
(ППП). Для повышения однородности Cs$^{+}$ волноводов предложена
предварительная чистка поверхности слоя подложки ионами Na$^{+}$
электродиффузией в расплаве NaNO$_{3}$. Установлено,
что диффузия ионов Na$^{+}$ полностью подавляет диффузию ионов Cs$^{+}$
из расплава смеси NaNO$_{3}$ и CsNO$_{3}$. Для понижения приращения
показателя преломления предлагается отжиг Cs$^{+}$
волноводов или комбинация процессов отжига и электрозаглубления
в расплаве смеси NaNO$_{3}$ и CsNO$_{3}$. Предложен новый метод —
импульсная электродиффузия (ИЭД), позволяющий эффективно заглублять Cs$^{+}$
волноводы при низких температурах в различных расплавах. Приведены
непосредственно измеренные с высокой точностью ППП ИЭД заглубленных
в расплавах NaNO$_{3}$ и KNO$_{3}$ Cs$^{+}$ волноводов.