Аннотация:
Проведено исследование процессов роста в системе
Yb$-$Ва$-$Си$-$О$-$F с использованием
пучков Yb, Сu, ВаО, BaF$_{2}$ на различных подложках. Показано, что при
определенных условиях пленки окислов можно получить в данном методе и без
использования потоков молекулярного кислорода. Коэффициент прилипания атомов
меди и иттербия при этом существенно меньше единицы, а тип подложки
оказывает определяющее влияние на химический и фазовый состав
выращиваемой пленки.