О прианодной области тлеющего разряда

Решена кинетическая задача о функции распределения электронов и профиле потенциала в прианодном слое тлеющего разряда при малых токах, когда межэлектронные столкновения несущественны и потенциал анода относительно плазмы положителен. Построены также профили концентрации и потенциала в прианодной плазменной области. Результаты расчета удовлетворительно согласуются с экспериментом. При уменьшении тока толщина слоя объемного заряда растет, и пока она остается меньше длины неупругих ударов, уменьшается и перепад потенциала в слое, ионизация в котором создает ионный поток в плазме. При меньших токах вольт-амперная характеристика слоя становится падающей. При еще меньших токах происходит переход к локальному режиму, когда диффузия электронов несущественна, а ионизация определяется локальным значением электрического поля. При больших токах применимо гидродинамическое описание. В этом случае потенциал анода может быть отрицательным.