Аннотация:
Теоретически исследуется развитие неустойчивости в пучково-плазменном
слое с открытыми боковыми границами. Показано, что с ростом тока
релятивистского электронного пучка неустойчивость приобретает излучательный
характер, когда становится существенным излучение электромагнитных волн
в поперечном направлении. В таких условиях имеет место концентрация поля
излучения вблизи пучково-плазменного слоя, а максимальный инкремент
неустойчивости пропорционален плотности пучка в степени 3/4.