Д. П. Борисов, Н. Н. Коваль, М. Ю. Крейндель, Е. А. Литвинов, П. М. Щанин, “Влияние состояния поверхности и напряжения на пробой приэлектродного ионного слоя в плазме вакуумной дуги”, ЖТФ, 1992, том 62, выпуск 11,страницы 57

Газовый разряд, плазма

Влияние состояния поверхности и напряжения на пробой приэлектродного ионного слоя в плазме вакуумной дуги

Д. П. Борисов, Н. Н. Коваль, М. Ю. Крейндель, Е. А. Литвинов, П. М. Щанин

Аннотация: Проведены исследования условий пробоя при электродного слоя пространственного заряда в плазме импульсной вакуумной дуги с током до 1 кА при подаче на электрод постоянного отрицательного напряжения 0$-$200 В или импульсного напряжения с амплитудой до 4 кВ и длительностью 150 мкс. Получены расчетные и экспериментальные зависимости времени задержки пробоя слоя от величины приложенного напряжения и состояния поверхности электродов. Обсуждаются два механизма пробоя приэлектродного ионного слоя и определены критические параметры перехода одного механизма в другой.