Фокусировка электронов на инжекционном полуобороте в резонаторе микротрона

Рассчитан первый тип ускорения в микротроне с учетом возмущения электромагнитного поля резонатора пролетными отверстиями. При расчете возмущенного поля использовано решение электродинамической задачи о плоском экране с бесконечно длинной щелью. Проанализирован процесс формирования пучка на инжекционном полуобороте, изучено влияние неоднородного СВЧ поля в пролетных отверстиях на поперечные колебания непараксиальных электронов. Показано, что при инжекции в возмущенном поле при определенных условиях достигаются минимально возможные вертикальная расходимость и поперечный размер пучка, захватываемого в ускорение. Приведены результаты экспериментальной проверки режима, соответствующего максимальному коэффициенту захвата. Показано, что допуск к размерам резонатора в режиме с наибольшим захватом составляет несколько процентов.