RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Журнал технической физики // Архив

ЖТФ, 1986, том 56, выпуск 2, страницы 297–306 (Mi jtf49)

Плазма

Прианодный слой в низкотемпературной водородной плазме. I

Ф. Г. Бакшт, А. Б. Рыбаков

Физико-технический институт им. А. Ф. Иоффе АН СССР, Ленинград

Аннотация: Приводятся результаты расчета приэлектродного слоя в низкотемпературной (${T_{e}\sim1}$ эВ) водородной плазме. Рассматриваются условия, когда вдали от электрода плазма находится в состоянии ионизационно-рекомбинационного равновесия и состоит из электронов, ионов и нейтральных атомов. В приэлектродном слое степень ионизации плазмы уменьшается по сравнению с равновесной за счет отвода части образующихся ионов на электрод. Нейтрализация ионов и рекомбинация атомарных частиц в молекулы на поверхности электрода, приводят к тому, что водородная плазма в приэлектродном слое слабоионизована и содержит наряду с атомами молекулы водорода. Решаются уравнения непрерывности и движения для компонент плазмы с учетом процессов ионизации атомов, рекомбинации ионов и диссоциации молекул водорода в приэлектродном слое. Определяются состав плазмы в приэлектродном слое и потоки компонент плазмы. Проанализирован энергетический баланс приэлектродного слоя.

УДК: 537.521

Поступила в редакцию: 02.04.1985



Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024