RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Журнал технической физики // Архив

ЖТФ, 2021, том 91, выпуск 6, страницы 1040–1044 (Mi jtf5002)

Физическая электроника

Зависимость топологии эпитаксиальных слоев PbSnTe:In от концентрации In

Д. В. Ищенкоa, А. Н. Акимовa, И. О. Ахундовa, В. А. Голяшовab, А. Э. Климовac, А. Б. Логиновd, Б. А. Логиновe, Н. С. Пащинa, А. С. Тарасовa, Е. В. Федосенкоa, В. Н. Шерcтяковаa

a Институт физики полупроводников им. А. В. Ржанова СО РАН, г. Новосибирск
b Новосибирский государственный университет
c Новосибирский государственный технический университет
d Московский государственный университет имени М. В. Ломоносова
e Национальный исследовательский университет Московский институт электронной техники, Зеленоград, Москва, Россия

Аннотация: Методом атомно-силовой микроскопии исследована топология поверхности эпитаксиальных пленок твердого раствора теллурида свинца и олова, в том числе с добавлением индия (Pb$_{1-x}$Sn$_{x}$Te:In), выращенных на монокристаллических подложках BaF$_{2}$(111) и буферном слое CaF$_{2}$/BaF$_{2}$ на Si(111). Показано, что характерные статистические показатели рельефа обусловлены особенностями роста пленки и механизмом встраивания индия, избыточное содержание которого зарегистрировано на поверхности ex situ методом рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии.

Ключевые слова: топологический изолятор, поверхность, твердый раствор, A$^{\mathrm{IV}}$B$^{\mathrm{VI}}$, теллурид свинца и олова.

Поступила в редакцию: 27.11.2020
Исправленный вариант: 19.01.2021
Принята в печать: 21.01.2021

DOI: 10.21883/JTF.2021.06.50876.326-20


 Англоязычная версия: Technical Physics, 2021, 66:7, 878–882

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024