RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Журнал технической физики // Архив

ЖТФ, 2021, том 91, выпуск 4, страницы 657–663 (Mi jtf5042)

Эта публикация цитируется в 1 статье

Физика низкоразмерных структур

Особенности согласования нижнего электрода с высокочастотным генератором смещения при реактивно-ионном травлении массивных подложек

С. Д. Полетаевab, А. И. Любимовc

a Институт систем обработки изображений РАН - филиал ФНИЦ "Кристаллография и фотоника" РАН, Самара, Россия, г. Самара
b Самарский национальный исследовательский университет имени академика С. П. Королева
c ФГУП «НПО "Государственный институт прикладной оптики"», г. Казань

Аннотация: Представлены теоретические и экспериментальные результаты по реактивно-ионному травлению массивных подложек во фреоне-14 с высокочастотным (ВЧ) смещением на нижнем электроде. Предложена гипотеза, согласно которой крупногабаритная подложка нарушает согласование нижнего электрода с ВЧ генератором за счет внесения дополнительной реактивной составляющей в импеданс нижнего электрода. Проведено численное моделирование реактивно-ионного травления с подложками различных габаритов в среде CF$_{4}$. Результаты моделирования показали значительный рост реактивной составляющей ВЧ мощности на нижнем электроде, если диаметр подложки превышает 50% диаметра нижнего электрода, что согласуется с предложенной гипотезой. Экспериментально показано, что при травлении массивных подложек нарушается согласование нижнего электрода с ВЧ генератором. Разработана специальная конструкция подложкодержателя для массивных подложек. Показано, что такой подложкодержатель существенно улучшает согласование ВЧ генератора с нижним электродом, особенно при добавлении в плазмообразующую смесь аргона в количестве 0.3–0.9 l/h.

Ключевые слова: дифракционный микрорельеф, реактивно-ионное травление, метод конечных элементов, импеданс, подложкодержатель, высокочастотный индукционный разряд, нижний электрод, реактивная мощность.

Поступила в редакцию: 18.09.2020
Исправленный вариант: 05.11.2020
Принята в печать: 18.11.2020

DOI: 10.21883/JTF.2021.04.50630.271-20


 Англоязычная версия: Technical Physics, 2021, 66:12, 1294–1300

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024