RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Журнал технической физики // Архив

ЖТФ, 2021, том 91, выпуск 1, страницы 145–151 (Mi jtf5112)

Эта публикация цитируется в 2 статьях

Физическая электроника

Влияние толщины гидрогенизированных углеродных пленок, легированных кремнием и кислородом, на свойства их поверхности

А. С. Гренадёров, А. А. Соловьев, К. В. Оскомов

Институт сильноточной электроники СО РАН, г. Томск

Аннотация: Получены гидрогенизированные углеродные пленки, легированные кремнием (11.9 $\pm$ 0.4 at.%) и кислородом (1.7 $\pm$ 0.1 at.%), толщиной 0.5–7 $\mu$m на подложках из титана марки ВТ6 и кремния в плазме несамостоятельного дугового разряда с накаленным катодом. Исследована зависимость твердости, внутренних напряжений, морфологии поверхности, смачиваемости, а также поверхностного потенциала полученных пленок от их толщины. Показано, что увеличение толщины пленки способствует повышению допустимой нагрузки на материал и его твердости. При этом пленки обладают низкими внутренними напряжениями (менее 600 MPa), а краевой угол смачивания с водой составляет 75–80$^\circ$. Установлено, что увеличение толщины пленки приводит к повышению отрицательного поверхностного потенциала от 50 до 670 mV.

Ключевые слова: алмазоподобный углерод, $\alpha$-C : H : SiO$_{x}$-пленки, твердость, внутренние напряжения, поверхностный потенциал.

Поступила в редакцию: 15.06.2020
Исправленный вариант: 15.07.2020
Принята в печать: 21.07.2020

DOI: 10.21883/JTF.2021.01.50287.204-20


 Англоязычная версия: Technical Physics, 2021, 66:1, 139–144

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024