Рентгеноструктурное исследование аморфно-кристаллического фазового перехода в Ni

Методом высокотемпературной рентгенографии получены систематические данные о аморфно-кристаллическом переходе в Ni. Установлено, что аморфная структура наноразмерных частиц Ni стабильна до температуры 200$^\circ$C. В температурном интервале 300–600$^\circ$C происходит образование нанокристаллов Ni, размер областей когерентного рассеяния которых составляет 5–15 nm в зависимости от температуры изотермического отжига. Выполнена оценка величины энергии активации роста нанокристаллов, составившая 67.3 kJ/mol. Установлена зависимость параметра элементарной ячейки нанокристаллического Ni от размера ОКР. С увеличением ОКР у нанокристаллических частиц Ni наблюдается рост метрики ячейки.