RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Журнал технической физики // Архив

ЖТФ, 2020, том 90, выпуск 3, страницы 400–409 (Mi jtf5355)

Эта публикация цитируется в 10 статьях

Твердое тело

Исследование модификации структуры и эрозии поверхности вольфрама и молибдена при плазменном облучении

Б. К. Рахадиловab, А. Ж. Миниязовa, М. К. Скаковc, Ж. Б. Сагдолдинаb, Т. Р. Туленбергеновa, Е. Е. Сапатаевa

a Филиал "Институт атомной энергии Национального ядерного центра Республики Казахстан", г. Курчатов
b Восточно-Казахстанский государственный университет им. С. Аманжолова, г. Усть-Каменогорск
c Национальный ядерный центр Республики Казахстан, Курчатов, Казахстан

Аннотация: Приведены результаты исследования модификации структуры и эрозии поверхности вольфрама и молибдена при облучении плазмой. Выявлено, что при облучении образцов наблюдается изменение поверхности в виде развития рельефа в результате неоднородного травления поверхности. Металлографический анализ показал, что при облучении образцов вольфрама при 1000 и 1500$^\circ$C степень развития рельефа невысокая по сравнению с образцом вольфрама, облученного при 700$^\circ$C. Определено наибольшее увеличение шероховатости у образцов, облученных при 1500$^\circ$C, что связано с образованием мелких трещин в приповерхностном слое. Установлено, что заметная эрозия образцов вольфрама и молибдена в результате облучения имитирующими стационарный режим потоками плазмы наступает только при относительно высоких температурах мишени. Установлено, что с увеличением энергии ионов от 1.5 до 2 keV увеличивается размер трещин. Обнаружено, что в результате облучения вольфрама стационарной плазмой в теле зерна образуются ямки травления размером от 100 до 500 nm, а при облучении c ускоряющим потенциалом 1.6 keV формируется большое количество мелких пор размером от 0.2 до 1.0 $\mu$m как результат вытравливания поверхности.

Ключевые слова: плазменное облучение, вольфрам, молибден, дивертор, плазменно-пучковая установка.

Поступила в редакцию: 14.06.2019
Исправленный вариант: 14.06.2019
Принята в печать: 03.09.2019

DOI: 10.21883/JTF.2020.03.48923.243-19


 Англоязычная версия: Technical Physics, 2020, 65:3, 382–391

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024