Влияние процесса токовой нейтрализации и многократного кулоновского рассеяния на пространственную динамику резистивной перетяжечной неустойчивости релятивистского электронного пучка, распространяющегося в омической плазме

Рассмотрено влияние процесса токовой нейтрализации, фазового перемешивания траекторий электронов и многократного кулоновского рассеяния электронов пучка на атомах фоновой среды на пространственный инкремент нарастания резистивной перетяжечной неустойчивости релятивистского электронного пучка, распространяющегося в омическом плазменном канале. Показано, что усиление токовой нейтрализации приводит к существенному росту данной неустойчивости, а фазовое перемешивание и процесс многократного рассеяния электронов пучка на атомах фоновой среды являются стабилизирующими фактором.