RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Журнал технической физики // Архив

ЖТФ, 2016, том 86, выпуск 5, страницы 155–158 (Mi jtf6569)

Эта публикация цитируется в 2 статьях

Краткие сообщения

Диффузия водорода в сталях в условиях электронного облучения

В. В. Ларионов, Н. Н. Никитенков, Ю. И. Тюрин

Национальный исследовательский Томский политехнический университет

Аннотация: Представлены результаты измерения коэффициентов диффузии водорода через металлические мембраны в процессе их одновременного электролитического наводороживания и облучения электронами (энергия 30 keV, плотность тока от 3 до 30 $\mu$A) как широким, так и узким пучком. Установлено, что время выхода водорода из мембраны определяется параметрами пучка электронов, его периодичностью и продолжительностью, также зависит от структуры и фазового состояния металлической мембраны. Показано, что коэффициент диффузии возрастает при использовании узкого пучка электронов в сканирующем режиме. Анализ выхода водорода во времени осуществлен на масс-спектрометре, соединенном с вакуумной камерой, содержащей электронную пушку, генератор развертки луча и электролитическую ячейку. Коэффициенты диффузии водорода при воздействии сканирующим электронным пучком в 15 раз выше, чем в тех же условиях при отсутствии облучения.

Поступила в редакцию: 13.05.2015
Исправленный вариант: 07.10.2015


 Англоязычная версия: Technical Physics, 2016, 61:5, 793–797

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024