Захват ионов в прикатодную потенциальную яму и его влияние на поджиг разряда II. Импульсный поджиг

Исследованы нестационарные процессы при подаче на плоский газонаполненный диод с термокатодом прямоугольных импульсов напряжения. Измерения проводились в режимах, соответствующих левой ветви кривой Пашена и началу перехода на правую (давление цезия ${10^{-3}{-}10^{-1}}$ Тор). Показано, что в этих условиях образуется прикатодная плазма, стабилизирующая диод по отношению к поджигу, а неустойчивость и пробой вызываются пролетными ионами на начальной стадии импульса до образования прикатодной плазмы. С этим связано существенное различие импульсного и стационарного поджига при больших эмиссиях в значительном диапазоне давлений. Прослежена кинетика формирования и распада прикатодной плазмы, экспериментально определены характерные времена радиального и надбарьерного выхода захваченных ионов.