Пороговая интенсивность и коэффициент усиления вынужденного комбинационного рассеяния в двуслойном высокодобротном микрорезонаторе при формировании внутренней и внешней фотонной субмикронной струи: “фотонный наноджет” в ближнем поле

На базе квантового и полуклассического подходов сделаны оценки энергетического порога возбуждения вынужденного комбинационного рассеяния и его связи с концентрацией оптически-активных молекул в двуслойном микрорезонаторе при формировании оптических полей особой структуры – внутреннего и внешнего “фотонного наноджета”. На основании величины запасенной энергии в моде и величины пороговой интенсивности предложено дополнительное общее правило отбора мод “шепчущей галереи”. Показана возможность фокусировки двуслойным резонатором падающего излучения лазерной накачки в субмикронный фокальный объем при сравнительно малой пороговой интенсивности.