Высокочастотные многослойные дифракционные Si-решетки с малым углом блеска – изготовление

Высокочастотные рентгеновские дифракционные решетки с плотностью штрихов 2500 mm$^{-1}$ и малым углом блеска были изготовлены на пластинах Si(111)1.8$^\circ$ с использованием электронно-лучевой литографии и жидкостного анизотропного травления. Многослойное Mo/Be-покрытие, состоящее из 40 бислоев для длины волны 11.3 nm, было нанесено методом магнетронного напыления. Профиль штрихов в процессе изготовления решеток контролировался с помощью атомно-силовой и растровой электронной микроскопии. Полученные с помощью атомно-силовой микроскопии усредненный профиль одного штриха, неусредненные случайные профили длиной несколько периодов и значения высокочастотной и среднечастотной шероховатости лучших дифракционных решеток будут использованы для последующего моделирования дифракционной эффективности в компьютерной программе PCGrate$^{\mathrm{TM}}$.