Вставное устройство для EUV-литографии на источнике синхротронного излучения четвертого поколения

Рассмотрена оптимизация устройств генерации синхротронного излучения из кольцевого источника четвертого поколения для EUV-литографии. Определены оптимальные длины периодов и проведено сравнение вставных устройств типа APPLE-II и Delta в режимах круговой и линейной поляризации по спектральным, мощностным характеристикам, размерам источника и угловой расходимости. Получены средние значения мощности рабочей гармоники порядка 6 W для круговой поляризации и порядка 2.6 W – для линейной. Оценены когерентные свойства генерируемого излучения: рассчитаны доли когерентных фотонов и построены поперечные функции когерентности.