RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Журнал технической физики // Архив

ЖТФ, 2024, том 94, выпуск 8, страницы 1280–1287 (Mi jtf6830)

XXVIII Международный симпозиум ''Нанофизика и наноэлектроника'', Н. Новгород, 11-15 марта 2024 г.
Физическая электроника

Многослойные структуры на основе Ni для зеркал гебелевского типа

К. В. Дуров, В. Н. Полковников, Н. И. Чхало, А. А. Ахсахалян, И. В. Малышев

Институт физики микроструктур РАН – филиал Федерального исследовательского центра Институт прикладной физики им. А.В. Гапонова-Грехова РАН, 603950 Нижний Новгород, Россия

Аннотация: Впервые исследованы характеристики многослойной структуры Ni$_{80}$Mo$_{20}$/Si, перспективной для изготовления зеркал Гебеля. Определены структурные параметры многослойной структуры. Показано, что величины переходных областей для $\sigma$(Ni$_{80}$Mo$_{20}$) и $\sigma$(Si) составляют 5 и 8.5 $\mathring{\mathrm{A}}$ соответственно. Найден состав структур, при котором достигалась лучшая отражательная способность $R$ = 69.5–56.1% для периодов 41.5–32 $\mathring{\mathrm{A}}$.

Ключевые слова: многослойные рентгеновские зеркала, магнетронное напыление, гебелевские зеркала.

Поступила в редакцию: 07.05.2024
Исправленный вариант: 07.05.2024
Принята в печать: 07.05.2024

DOI: 10.61011/JTF.2024.08.58555.149-24



Реферативные базы данных:


© МИАН, 2025