Безмасочный литограф прямого рисования. Конструкция, устройство и применение

Представлены результаты разработки безмасочного литографа прямого рисования, который позволил сформировать “окна” в фоторезистивном слое пучком диаметром 10 $\mu$m, с точностью перемещения до 2.5 $\mu$m и ровностью края до 10 $\mu$m. Описаны техническое устройство литографа, принцип работы основных узлов прибора. Для управления литографом было специально разработано программное обеспечение. Разработанный прибор был успешно апробирован для выполнения ряда технических задач, в том числе и для изготовления многослойных многостриповых рентгеновских зеркал.