В. И. Гушенец, А. С. Бугаев, А. В. Визирь, Е. М. Окс, А. Г. Николаев, Г. Ю. Юшков, “Зондовое in situ измерение параметров плазмы при нанесении покрытий бора магнетронным методом”, ЖТФ, 2023, том 93, выпуск 1,страницы 89

Плазма

Зондовое in situ измерение параметров плазмы при нанесении покрытий бора магнетронным методом

В. И. Гушенец^a, А. С. Бугаев^a, А. В. Визирь^a, Е. М. Окс^ab, А. Г. Николаев^a, Г. Ю. Юшков^a

^a Институт сильноточной электроники СО РАН, 634055 Томск, Россия
^b Томский государственный университет систем управления и радиоэлектроники, Томск, Россия

Аннотация: Описаны особенности зондовой методики и представлены результаты измерений параметров плазмы, генерируемой планарной магнетронной распылительной системой с мишенью из чистого бора в процессе нанесения покрытий. Особенность зондовых измерений заключалась в использовании нагрева собирающей поверхности одиночного ленгмюровского зонда. Нагрев приводил к снижению электрического сопротивления пленки бора на поверхности, что обеспечивало возможность проведения in situ зондовых измерений параметров плазмы магнетронного разряда в течение всего процесса нанесения покрытия бора.

Ключевые слова: параметры плазмы, зондовый метод, планарный магнетрон, пленки бора.

Поступила в редакцию: 07.09.2022
Исправленный вариант: 12.10.2022
Принята в печать: 14.10.2022

DOI: 10.21883/JTF.2023.01.54067.219-22