RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Журнал технической физики // Архив

ЖТФ, 2023, том 93, выпуск 7, страницы 913–920 (Mi jtf7026)

XXVII Международный симпозиум ''Нанофизика и наноэлектроника'' Н. Новгород, 13-16 марта, 2023 г.
Физика низкоразмерных структур

Использование сканирующей зондовой литографии для формирования планарных микрочастиц с конфигурационной анизотропией

Д. А. Бизяев, А. А. Бухараев, А. С. Морозова, Н. И. Нургазизов, А. П. Чукланов

Казанский физико-технический институт им. Е. К. Завойского, КазНЦ РАН, 420029 Казань, Россия

Аннотация: Представлены экспериментальные результаты формирования полимерных масок для создания планарных микрочастиц заданной формы методами сканирующей зондовой литографии. Рассмотрены проблемы, связанные с нелинейностью перемещения зонда во время процесса формирования маски. Продемонстрирована возможность увеличения времени жизни зонда за счет изменения процедуры формирования маски и (или) изменения температуры образца. Улучшение качества получаемой маски достигнуто за счет использования химического травления.

Ключевые слова: атомно-силовая микроскопия, полимерные маски, химическое травление.

Поступила в редакцию: 04.04.2023
Исправленный вариант: 04.04.2023
Принята в печать: 04.04.2023

DOI: 10.21883/JTF.2023.07.55745.56-23



Реферативные базы данных:


© МИАН, 2025