RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Журнал технической физики // Архив

ЖТФ, 2023, том 93, выпуск 7, страницы 1032–1036 (Mi jtf7046)

XXVII Международный симпозиум ''Нанофизика и наноэлектроника'' Н. Новгород, 13-16 марта, 2023 г.
Физическая электроника

Подложки для мягкой рентгеновской микроскопии на основе Si$_3$N$_4$ мембран

Д. Г. Реунов, Н. С. Гусев, М. С. Михайленко, Д. В. Петрова, И. В. Малышев, Н. И. Чхало

Институт физики микроструктур РАН, 607680 Нижний Новгород, Россия

Аннотация: Экспериментально были получены мембраны из нитрида кремния в качестве подложек для биологических образцов, которые исследованы на микроскопе с рабочей длиной волны 13.8 nm. Полученные свободно висящие пленки имели размер до 1.5 $\times$ 1.5 mm, что позволило выбрать интересную для исследования область на образце порядка десятков – сотен микрон. Механическая прочность мембран удовлетворяет требованию, чтобы образцы не рвали мембраны и выдерживали транспортировку. Полученные мембраны имеют прозрачность более 40% в диапазоне “окна прозрачности воды” (2.3–4.4 nm) и экстремальный ультрафиолет (13–15 nm).

Ключевые слова: мембраны Si$_3$N$_4$, фотолитография, микроскопия мягкого рентгеновского излучения, экстремальная ультрафиолетовая микроскопия, корреляционная микроскопия.

Поступила в редакцию: 02.05.2023
Исправленный вариант: 02.05.2023
Принята в печать: 02.05.2023

DOI: 10.21883/JTF.2023.07.55765.105-23



Реферативные базы данных:


© МИАН, 2025