Формирование плазмы в атмосфере азота импульсным электронным пучком вблизи диэлектрической мишени при форвакуумных давлениях

Исследованы особенности процессов формирования пучковой плазмы вблизи диэлектрической мишени из алюмооксидной керамики при ее облучении импульсным электронным пучком в форвакуумном диапазоне давлений (4–15 Pa). Установлено, что плотность пучковой плазмы вблизи облучаемой мишени выше, чем при “свободном” распространении электронного пучка. Наблюдаемое приращение плотности плазмы зависит от тока эмиссии (тока пучка), давления газа и ускоряющего напряжения. Влияние диэлектрической мишени на плотность пучковой плазмы обусловлено эмиссией электронов с поверхности мишени и некомпенсированным отрицательным потенциалом на поверхности мишени, который определяет энергию эмитированных электронов. Увеличение давления газа привело к меньшему приращению плотности пучковой плазмы вследствие уменьшения абсолютного значения отрицательного потенциала. Варьированием тока электронного пучка и ускоряющего напряжения можно контролировать плотность пучковой плазмы.