Исследование неоднородности свойств тонких пленок нитрида ниобия, полученных методом атомно-слоевого осаждения

Изучена неоднородность свойств тонкой пленки нитрида ниобия, полученной методом атомно-слоевого осаждения, усиленного плазмой на 100 mm кремниевой подложке со слоем оксида кремния. Неоднородность распределения поверхностного сопротивления составила 7% на диаметре 92 mm. Неоднородность распределения толщины пленки, измеренная с помощью рентгеновской рефлектометрии в центральной части пластины и в четырех местах на удалении от центра на 40 mm, составила 4%. Рентгеновская дифракция, проведенная в этих же местах на подложке, не показала видимых сдвигов рефлексов. Расхождение в параметре решетки для разных областей составила всего 0.06%. Сверхпроводящие измерения показали максимальное отклонение на 1.6% по температуре перехода в сверхпроводящее состояние и 7% по плотности критического тока на диаметре 80 mm.