Распыление карбидных пленок с поверхности металла ионами гелия

Исследована зависимость коэффициентов распыления легкими ионами поверхностных слоев титана и вольфрама, модифицированных углеродом, от толщины слоя. Теоретическое исследование проведено на основе модели распыления (ранее адаптированной для описания распыления двухкомпонентных мишеней и слоисто-неоднородных поверхностей), базирующейся на двух механизмах распыления, позволяющей проанализировать полученные зависимости. Теоретические расчеты полных коэффициентов распыления ионами гелия поверхностных слоев титана и вольфрама, модифицированных углеродом, приведены в сравнении с результатами компьютерного моделирования, полученными с помощью программы SRIM-2013pro.