RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Журнал технической физики // Архив

ЖТФ, 2022, том 92, выпуск 12, страницы 1844–1852 (Mi jtf7494)

Физическое материаловедение

Остаточные напряжения на интерфейсе между несущей лентой и слоем YSZ при изготовлении ВТСП проводов второго поколения

А. В. Иродова, Е. А. Головкова, О. А. Кондратьев, В. С. Круглов, В. Е. Крылов, С. А. Тихомиров, С. В. Шавкин

Национальный исследовательский центр "Курчатовский институт", 123182 Москва, Россия

Аннотация: С помощью рентгеновской дифракции определены остаточные напряжения на поверхности несущей ленты из нержавеющей стали AISI 310S, используемой при изготовлении ВТСП проводов второго поколения в НИЦ “Курчатовский институт”, от поставки до нанесения основного буферного слоя YSZ между лентой и сверхпроводящим слоем, и остаточное напряжение в самом буферном слое YSZ. На поверхности ленты в состоянии поставки обнаружено вызванное прокаткой сжимающее напряжение $\sim$ -0.8 GPa. В процессе обработки оно меняется в пределах от -0.5 до -1.1 GPa. На каждом этапе найдено его распределение по глубине до 10 $\mu$m и определены вызванные обработкой остаточные напряжения. Остаточное напряжение в слое YSZ, нанесенном по технологии ABAD, является сжимающим и составляет -3.29 GPa. Слой имеет дефектную, по типу радиационного распухания, монокристаллическую структуру с периодом решетки в ненапряженном состоянии 5.1820 $\mathring{\mathrm{A}}$, на 0.9% больше, чем в обычном кристалле. Полученные результаты находятся в согласии с данными ранее проведенного нейтрон-дифракционного исследования остаточных напряжений внутри несущей ленты.

Ключевые слова: остаточное напряжение, ВТСП-2, лента AISI 310S, слой YSZ, кристаллическая структура YSZ, рентгеновская дифракция.

Поступила в редакцию: 01.08.2022
Исправленный вариант: 01.08.2022
Принята в печать: 23.08.2022

DOI: 10.21883/JTF.2022.12.53887.197-22



Реферативные базы данных:


© МИАН, 2025