RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Журнал технической физики // Архив

ЖТФ, 2022, том 92, выпуск 12, страницы 1943–1950 (Mi jtf7505)

Эта публикация цитируется в 2 статьях

Физическая электроника

Преимущественное распыление при облучении сплавов газовыми кластерными ионами

В. С. Чернышa, А. Е. Иешкинa, Д. С. Киреевa, Д. К. Миннебаевa, Е. А. Скрылеваb, Б. Р. Сенатулинb

a Московский государственный университет имени М. В. Ломоносова, 119991 Москва, Россия
b Национальный исследовательский технологический университет "МИСиС", 119049 Москва, Россия

Аннотация: Исследованы топография и состав поверхности сплавов на основе никеля при облучении кластерными ионами Ar$_{2500}^+$ с энергией 20 keV и атомарными ионами Ar$^+$ с энергией 3 keV. Экспериментально обнаружено обеднение поверхности сплавов компонентом с меньшей энергией связи. Показано, что изменение поверхностных концентраций компонентов сплавов при облучении кластерными ионами на порядок больше, чем при распылении атомарными ионами. Степень изменения состава поверхности определена соотношением коэффициентов распыления компонентов сплава.

Ключевые слова: газовые кластерные ионы, ионное распыление, рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия, преимущественное распыление, топография поверхности.

Поступила в редакцию: 19.05.2022
Исправленный вариант: 25.06.2022
Принята в печать: 18.08.2022

DOI: 10.21883/jtf.2022.12.53761.141-22



Реферативные базы данных:


© МИАН, 2026