RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Журнал технической физики // Архив

ЖТФ, 2025, том 95, выпуск 3, страницы 489–497 (Mi jtf7517)

Специальный выпуск по материалам Международной конференции "Наноуглерод и Алмаз" (НиА'2024)
Атомная и молекулярная физика

Исследование устойчивости дисперсий сильнолегированных бором наноалмазов

К. М. Кондринаab, Е. К. Уродковаc, И. Н. Сенчихинc, С. Г. Ляпинa, Ю. В. Григорьевd, Е. А. Екимовa

a Институт физики высоких давлений им. Л. Ф. Верещагина РАН, 108840 Троицк, Московская обл., Россия
b Московский физико-технический институт (национальный исследовательский университет), 141701 Долгопрудный, Московская обл., Россия
c Институт физической химии и электрохимии им. А.Н. Фрумкина РАН, 119071 Москва, Россия
d Институт кристаллографии им. А.В. Шубникова Курчатовского комплекса кристаллографии и фотоники НИЦ "Курчатовский институт", 119333 Москва, Россия

Аннотация: Изучение свойств водных дисперсий легированных бором наноалмазов показывает их высокую устойчивость к агрегации и выпадению в осадок по сравнению с детонационными наноалмазами. Легированные бором наноалмазы получены пиролизом 9-борабицикло[3.3.1]нонан димера C$_{16}$H$_{30}$B$_2$ под давлением 8–9 GPa и температурах 1250$^\circ$C–1300$^\circ$С. Оцененная из спектров комбинационного рассеяния света концентрация бора синтезированных наноалмазов составила 10$^{21}$ cm$^{-3}$, что соответствует сильному легированию. Исследования методом спектроскопии инфракрасного поглощения наноалмазов двух типов позволили выявить дополнительные линии в спектрах легированных наноалмазов, характерные для B–O-групп. Присутствием бора на поверхности легированных бором наноалмазов, объяснена уникально высокая устойчивость коллоидного раствора синтезированных нами наноалмазов сразу после кислотной очистки без дополнительной функционализации. Улучшенная благодаря наличию примеси устойчивость наноалмазов с бором в водных растворах с pH 2.5–8 может стать решающим фактором для эффективного применения наноалмазов в электрохимических и биомедицинских технологиях, для “засева” центров кристаллизации при получении CVD-проводящих пленок без нарушения электрического контакта с подложкой и в качестве наполнителя проводящих чернил для технологий трафаретной печати.

Ключевые слова: детонационные наноалмазы, высокие давления, кислород, инфракрасный, динамическое рассеяние света, электрокинетический потенциал.

Поступила в редакцию: 09.10.2024
Исправленный вариант: 09.10.2024
Принята в печать: 09.10.2024

DOI: 10.61011/JTF.2025.03.59854.286-24



Реферативные базы данных:


© МИАН, 2025