RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Журнал технической физики // Архив

ЖТФ, 2014, том 84, выпуск 3, страницы 36–43 (Mi jtf8026)

Эта публикация цитируется в 10 статьях

Плазма

Воздействие плазменной струи на разные виды вольфрама

А. В. Анкудиновa, А. В. Воронинa, В. К. Гусевa, Я. А. Герасименкоb, Е. В. Деминаc, М. Д. Прусаковаc, Ю. В. Судьенковd

a Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, 194021 Санкт-Петербург, Россия
b Санкт-Петербургский государственный политехнический университет, 195251 Санкт-Петербург, Россия
c Институт металлургии и материаловедения им. А. А. Байкова РАН, 119991 Москва, Россия
d Санкт-Петербургский государственный университет, 199164 Санкт-Петербург, Россия

Аннотация: Представлены результаты исследований воздействия плазмы на различные виды вольфрама, создающей нестационарные тепловые нагрузки, аналогичные ЭЛМ-событиям в токамаке. Данные получены в экспериментах по облучению вольфрама струями плазменной пушки, которая генерировала струю водородной плазмы плотностью $\sim$ 10$^{22}$ m$^{-3}$, скоростью 100–200 km/s в течение 10 $\mu$s. Облучение проводилось потоком плазмы с плотностью энергии 0.70 и 0.25 MJ/m$^2$. Проведены исследования изменений структуры облученных образцов вольфрама – монокристаллического, горячекатаного и порошковых V$\underbar{\ }$МP, ITER$\underbar{\ }$D$\underbar{\ }$2EDZJ4. В результате воздействия плазмы на поверхности монокристаллического, горячекатаного и порошкового вольфрама V$\underbar{\ }$MP обнаружены регулярные трещины с периодом $\sim$ 1 mm. Структура облученной поверхности вольфрама ITER$\underbar{\ }$D$\underbar{\ }$2EDZJ4 оказалась наиболее устойчивой к разрушению. Глубина расплавленного слоя составляла около 1 – 3 $\mu$m, а зона активного термического воздействия $\sim$ 15–20 $\mu$m. Структура материала приобретала ярко выраженную регулярность с характерным размером частиц менее 1 $\mu$m. Рентгеновский анализ показал изменение параметров кристаллической решетки после облучения, связанное с процессами плавления и кристаллизации поверхностного слоя. Исследования вольфрама V$\underbar{\ }$MP после циклического облучения плазмой с различной плотностью энергии показали, что наибольшие повреждения поверхности обнаружены при большой плотности энергии, тогда как при малой энергии и большом количестве облучений поверхность имела наименьшие по размерам дефекты.

Поступила в редакцию: 10.06.2013


 Англоязычная версия: Technical Physics, 2014, 59:3, 346–352

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2025