RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Журнал технической физики // Архив

ЖТФ, 2014, том 84, выпуск 3, страницы 94–98 (Mi jtf8035)

Эта публикация цитируется в 3 статьях

Физическое материаловедение

Использование связанных параметров в рентгенодифракционном анализе многослойных структур с учетом времени роста слоев

П. А. Юнинa, Ю. Н. Дроздовa, М. Н. Дроздовa, А. В. Новиковa, Д. В. Юрасовa, Н. Д. Захаровb, С. А. Королевa

a Институт физики микроструктур РАН, 603950 Нижний Новгород, Россия
b Max Planck Institute of Microstructure Physics, Weinberg 2, D-06120 Halle, Germany

Аннотация: Обсужден новый подход к анализу рентгенодифракционных спектров многослойных структур. Особенностью подхода является использование информации о временах роста отдельных слоев. При этом по сравнению с обычной процедурой анализа уменьшается число варьируемых параметров. Повышаются стабильность и скорость сходимости процедуры подгонки вычисленного спектра к экспериментальному даже в случае большого числа слоев и малоинформативного эксперимента. Подход реализован за счет наложения связей на параметры модели при расчете спектра в программе Bruker DIFFRAC.Leptos. На примере многослойной SiGe/Si-структуры проведено сравнение нового подхода с обычной процедурой. Корректность нового подхода подтверждена сравнением с данными вторично-ионной масс-спектрометрии и просвечивающей электронной микроскопии. Обсуждены преимущества и ограничения предлагаемого метода.

Поступила в редакцию: 17.04.2013


 Англоязычная версия: Technical Physics, 2014, 59:3, 402–406

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2025