Аннотация:
Исследован рост прослойки Fe (1.5–14 ML) и пленки Cu ($\sim$ 5 ML) на прослойке Fe в условиях пониженной (1240$^\circ$C) и повышенной (1400$^\circ$C) температур источника Fe и при пониженной (900$^\circ$C) температуре источника Cu. Исследования проведены с помощью электронной оже-спектроскопии, дифракции медленных электронов и атомно-силовой микроскопии. В качестве источников металлов использовали тонкие плолоски Fe и Cu на Ta-фольге. Показано, что до толщины 4–5 ML в пленке Fe на Si (001) идет формирование неравновесной двумерной фазы в виде плотноупакованных атомно-гладких наноостровков. А при толщине больше 4–5 ML неравновесная фаза Fe переходит к объемной фазе Fe и соответственно силицида Fe$_X$Si. При температурах источника Fe 1240 и 1400$^\circ$C неравновесная фаза состоит из Fe и Si, сегрегированного на его поверхности, и соответственно из смеси Fe c Si. Рост Cu на неравновесных фазах Fe и Fe–Si идет в виде гладкого слоя Cu с сегрегированным сверху Si и соответственно в виде смеси Cu с Fe и Si. На объемных фазах Fe и Fe$_X$Si растут островки Cu с бо́льшими и соответственно меньшими размерами.