RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Журнал технической физики // Архив

ЖТФ, 2025, том 95, выпуск 9, страницы 1725–1732 (Mi jtf8309)

XXIX Cимпозиум "Нанофизика и наноэлектроника", Нижний Новгород 10-14 марта 2025 г.
Физическое материаловедение

Формирование микроструктур методами бесконтактной аэрозольной печати наночастицами

В. В. Ивановa, А. А. Ефимовa, В. И. Борисовa, М. Н. Уразовa, Д. В. Корнюшинa, А. Г. Мусаевa, В. А. Ворошиловаa, В. А. Долговa, Н. П. Симоненкоb, М. С. Ивановa

a Московский физико-технический институт, Центр испытаний функциональных материалов, 141701 Долгопрудный, Московская обл., Россия
b Институт общей и неорганической химии им. Н.С. Курнакова РАН, Лаборатория физикохимии керамических материалов, 119991 Москва, Россия

Аннотация: Проанализированы условия аэродинамической фокусировки аэрозольных потоков, обжимаемых потоком ограждающего газа, в условиях бесконтактной аэрозольной печати сухими наночастицами металлов и микроразмерными каплями чернил для формирования линий малой ширины на подложках. Численными оценками показано, что в процессах движения к подложке после выхода из сопла сферических наночастиц металлов при средних размерах более 70 nm числа Стокса достаточно высоки и отклонения их траекторий от оси потока составляют менее 1 $\mu$m, что подтверждает возможность использования аэродинамической фокусировки для печати сухими наночастицами. Аэрозольной печатью сухими наночастицами Au квазисферической формы получены массивы в виде линий шириной около 30 $\mu$m, показавшие высокое плазмонное усиление рамановского спектра низких концентраций красителя BPE (1,2-бис(4-пиридил)этилена) более 2 $\cdot$ 10$^4$. Аэрозольная печать квазисферическими наночастицами Ag с одновременным лазерным спеканием позволила сформировать монолитные высокопроводящие микроструктуры с достаточно низким удельным сопротивлением, превышающим всего в 2.2 раза удельное сопротивление крупнокристаллического серебра.

Ключевые слова: аэрозольная печать, аэродинамическая фокусировка, наночастицы металлов, плазмонное усиление, высоко проводящие микроструктуры.

Поступила в редакцию: 29.04.2025
Исправленный вариант: 29.04.2025
Принята в печать: 29.04.2025

DOI: 10.61011/JTF.2025.09.61233.76-25



© МИАН, 2025