Аннотация:
Описываются стационарный СВЧ источник плазмы,
его характеристики и возможность заполнения открытой магнитной ловушки
плазмой, инжектируемой из него. В источнике плазма создается на частоте
2400 МГц (подводимая мощность до 150 Вт) в режиме электронного циклотронного
резонанса (ЭЦР) при давлении аргона $10^{-5}{-}10^{-2}$ Тор. Изменяя условия
разряда, можно изменять концентрацию инжектируемой плазмы от $10^{9}$ до
$10^{12}\,\text{см}^{-3}$, при этом ${T_{e}=3\div8}$ эВ.
Экспериментально показана возможность эффективной инжекции плазмы из
источника в открытые магнитные ловушки различной конфигурации.