Аннотация:
Рассмотрены линейные зонные пластинки для жесткого ($E>$ 10 keV) рентгеновского излучения на основе срезов многослойных покрытий W$_5$Si$_3$/Si, изготовленных методом магнетронного распыления. Из численных расчетов следует, что эта пара материалов обеспечивает высокую эффективность в первом и втором порядках дифракции. Экспериментально установлено, что возможен синтез многослойных структур высокого качества, содержащих сотни слоев на кремниевых и стеклянных подложках. Показано, что их срезы могут быть получены путем ионного травления многослойного покрытия через маску.