Исследования фотопроводящих и фотодиэлектрических свойств гетероструктур из пленок поли-$N$-эпоксипропилкарбазола и MEH-PPV с добавкой октабутилфталоцианина цинка

Получены гетероструктуры из пленок поли-$N$-эпоксипропилкарбазола и [2-метокси-5-(2'-этилгексилокси)-1,4-фенилен-винилена] с добавками 2,3,9,10,16,17,23,24-октабутилфталоцианина цинка. Исследованы фотопроводящие и фотодиэлектрические свойства гетероструктур в области поглощения металлокомплекса. Фоточувствительность исследованных образцов определяется триплетным состоянием фотогенерированных электронно-дырочных пар, их диссоциацией во внешнем электрическом поле и захватом носителей заряда на энергетические ловушки. Повышенная фоточувствительность гетероструктур по сравнению с монослоями пленок поясняется большей эффективностью диссоциации фотогенерированных электронно-дырочных пар и нивелированием ловушек для неравновесных носителей заряда на границах раздела пленок.