RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Журнал технической физики // Архив

ЖТФ, 2011, том 81, выпуск 10, страницы 122–128 (Mi jtf9266)

Эта публикация цитируется в 10 статьях

Поверхность, электронная и ионная эмиссия

Особенности формирования пленки Fe$_3$O$_4$ на поверхности Si(111), покрытой тонким слоем SiO$_2$

В. В. Балашевab, В. В. Коробцовab, Т. А. Писаренкоab, Л. А. Чеботкевичb

a Институт автоматики и процессов управления ДВО РАН, 690041 Владивосток, Россия
b Институт физики и информационных технологий, Дальневосточный федеральный университет, 690950 Владивосток, Россия

Аннотация: Используя различные способы окисления Fe на поверхности Si(111), покрытой тонким (1.5 nm) слоем SiO$_2$, были выращены поликристаллические пленки магнетита. Установлено влияние дефектов пленки SiO$_2$ на процесс силицидообразования при нагреве пленки Fe. Обнаружено, что окисление пленки Fe при высокой температуре приводит как к образованию Fe$_3$O$_4$, так и моносилицида железа. С другой стороны, осаждение Fe в атмосфере O$_2$ при высокой температуре приводит к росту на поверхности SiO$_2$ однородной по составу пленки Fe$_3$O$_4$. Обнаружено, что данный метод синтеза приводит к формированию в пленке магнетита [311]-текстуры, ось которой нормальна поверхности. Проведено исследование влияния метода формирования на магнитные свойства выращенных пленок Fe$_3$O$_4$. Высокое значение коэрцитивной силы пленок Fe$_3$O$_4$, сформированных путем окисления пленки Fe, обусловлено морфологическими особенностями и неоднородностью состава пленки магнетита.

Поступила в редакцию: 11.01.2011


 Англоязычная версия: Technical Physics, 2011, 56:10, 1501–1507

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2025