Эта публикация цитируется в
10 статьях
Поверхность, электронная и ионная эмиссия
Особенности формирования пленки Fe$_3$O$_4$ на поверхности Si(111), покрытой тонким слоем SiO$_2$
В. В. Балашевab,
В. В. Коробцовab,
Т. А. Писаренкоab,
Л. А. Чеботкевичb a Институт автоматики и процессов управления ДВО РАН, 690041 Владивосток, Россия
b Институт физики и информационных технологий, Дальневосточный федеральный университет, 690950 Владивосток, Россия
Аннотация:
Используя различные способы окисления Fe на поверхности Si(111), покрытой тонким (1.5 nm) слоем SiO
$_2$, были выращены поликристаллические пленки магнетита. Установлено влияние дефектов пленки SiO
$_2$ на процесс силицидообразования при нагреве пленки Fe. Обнаружено, что окисление пленки Fe при высокой температуре приводит как к образованию Fe
$_3$O
$_4$, так и моносилицида железа. С другой стороны, осаждение Fe в атмосфере O
$_2$ при высокой температуре приводит к росту на поверхности SiO
$_2$ однородной по составу пленки Fe
$_3$O
$_4$. Обнаружено, что данный метод синтеза приводит к формированию в пленке магнетита [311]-текстуры, ось которой нормальна поверхности. Проведено исследование влияния метода формирования на магнитные свойства выращенных пленок Fe
$_3$O
$_4$. Высокое значение коэрцитивной силы пленок Fe
$_3$O
$_4$, сформированных путем окисления пленки Fe, обусловлено морфологическими особенностями и неоднородностью состава пленки магнетита.
Поступила в редакцию: 11.01.2011