Управление плотностью эффективного поверхностного заряда в МДП структуре с пленкой триоксида вольфрама

Определены плотность встроенного заряда и плотность поверхностных состояний в МДП структуре с пленкой WO$_{3}$, полученной конденсацией в вакууме и из растворов алкоголятов вольфрама. Показано, что этими параметрами можно управлять термообработкой в вакууме или на воздухе. Увеличение оптической плотности пленок триоксида вольфрама при термохромном процессе сопровождается увеличением отрицательного встроенного заряда и плотности поверхностных состояний.