Краткие сообщения

Температурное управление распределением состава по толщине эпитаксиальных слоев

Г. И. Жовнир, С. В. Клецкий

Институт полупроводников АН УССР, Киев

Поступила в редакцию: 31.07.1986

Реферативные базы данных:

•