Аннотация:
Предложена модель неустойчивой стадии искрового разряда в вакууме, описывающая все ее характерные проявления: всплески тока в диоде, рост потенциала на фронте катодного факела, коллективное ускорение ионов в вакуумных и плазменных диодах, изменение механизма эрозии катода, появление электронных микропучков с высокой плотностью тока на аноде. Показано, что эти процессы связаны с возникновением заряженного слоя пространственно-неоднородной плазмы на границе катодного факела в неустойчивой стадии искрового разряда в вакууме. Его появление обусловлено ограниченной эмиссионной способностью плазмы на фронте катодного факела при его расширении в вакуум. Это приводит к разрыву плазмы, который представляет собой “вырывание” электронов из граничной области факела, и образованию на короткое время заряженной плазмы – плотного ионного сгустка на границе катодного факела. Полученные в рамках модели оценки находятся в хорошем согласии с экспериментальными данными по исследованию физических процессов в неустойчивой стадии искрового вакуумного разряда.