RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Журнал технической физики // Архив

ЖТФ, 2009, том 79, выпуск 11, страницы 36–40 (Mi jtf9974)

Эта публикация цитируется в 2 статьях

Твердотельная электроника

Поляризационная фоточувствительность барьеров Шоттки на кристаллах ZnAs$_2$ моноклинной модификации

Ю. А. Николаевa, В. Ю. Рудьb, Ю. В. Рудьa, Е. И. Теруковa

a Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, г. Санкт-Петербург
b Санкт-Петербургский государственный политехнический университет, 195251 Санкт-Петербург, Россия

Аннотация: Методом направления кристаллизации близкого к стехиометрическому составу соединения расплава выращены монокристаллы ZnAs$_2$ моноклинной модификации, на которых созданы первые фоточувствительные барьеры Шоттки Cu(In)/$p$-ZnAs$_2$ и получены их первые спектры фоточувствительности в естественном и линейно-поляризованном излучении. Обнаружена поляризационная фоточувствительность новых структур. На основании анализа спектров фотоактивного поглощения моноклинной модифицации ZnAs$_2$ установлено, что минимальные прямые межзонные переходы в этих кристаллах преимущественно разрешены в поляризации $\mathbf{E}\parallel$ оси OZ и могут быть использованы, в частности, при создании новых устройств – поляризационно-управляемых переключателей спектрального диапазона фоторегистрации падающего излучения.

Поступила в редакцию: 26.12.2008


 Англоязычная версия: Technical Physics, 2009, 54:11, 1597–1601

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2026