Моделирование кинетики газофазных реакций стимулируемого плазмой химического осаждения кремния из силана

Создана модель газофазных реакций и на ее основе рассчитана кинетика стимулируемого плазмой химического осаждения кремния из силана. Показано, что основную роль в процессе разложения силана и осаждения кремния играют нейтральные радикалы $\mathrm{SiH}_3$ и $\mathrm{SiH}_2$. Заряженные частицы (ионы и ион-радикалы) не оказывают существенного влияния на кинетику процесса.