Моделирование прямого травления полимерных резистов пучками тяжелых ионов средних энергий

Работа посвящена моделированию процесса прямого травления полимерных резистов пучками тяжелых ионов средних энергий. Теоретическое исследование проводилось на основе модели, предложенной в работе [10], согласно которой уменьшение толщины пленки происходит в результате движения (проседания) вещества полимерной матрицы, вызванного диффузионными потоками низкомолекулярных фрагментов и свободных объемов (дырок), образующихся в полимере под действием излучения. Основное преимущество используемой модели заключается в том, что получаемые на ее основе результаты позволякт учесть влияние движения облучаемой поверхности на кинетику травления. Это важно для описания процесса в случае больших толщин стравливаемых слоев. В дополнение к используемой модели [10] в предлагаемой работе учтены упругие взаимодействия налетающих ионов с атомами полимера, что позволило описать процесс травления в случае облучения тяжелыми ионами. Показано, что результаты моделирования хорошо соответствуют имеющимся экспериментальным данным. Сделаны оценки ряда параметров, характеризующих взаимодействие ионного излучения с полимером.