Моделирование и оптимизация оптических схем установок фотолитографии

На основе детального рассмотрения критериев качества оптического изображения проводится оптимизация апертуры источника излучения в установках контактной фотолитографии. Проводится анализ возможности увеличения глубины фокуса и методов подавления эффектов хроматической аберрации в проекционной литографии. Дается краткий обзор перспективных технологических методов.