В. А. Киселевский, К. А. Фетисенкова, А. А. Татаринцев, А. Е. Мельников, О. Г. Глаз, “Оптимизация технологий изготовления структур интегральной фотоники с использованием позитивного электронного резиста AR-P 6200”, Оптика и спектроскопия, 2025, том 133, выпуск 3,страницы 292

Труды международной конференции The XXVIII Annual International Conference "Saratov Fall Meeting 2024" , 23-27 сентября 2024 г., Саратов, Россия. Перспективные материалы оптоэлектроники, лазерной физики и фотоники
Волоконная и интегральная оптика

Оптимизация технологий изготовления структур интегральной фотоники с использованием позитивного электронного резиста AR-P 6200

В. А. Киселевский^ab, К. А. Фетисенкова^bc, А. А. Татаринцев^b, А. Е. Мельников^b, О. Г. Глаз^bd

^a Институт сверхвысокочастотной полупроводниковой электроники им. В. Г. Мокерова РАН, Москва, Россия
^b Физико-технологический институт им. К.А. Валиева РАН, Москва, Россия
^c Московский физико-технический институт (государственный университет), Долгопрудный, Россия
^d Национальный исследовательский университет «Московский энергетический институт», Москва, Россия

Аннотация: Создана методика для изготовления волноводов с каналом заданной ширины, используя электронно-лучевую литографию с применением позитивного электронного резиста AR-P 6200 (CSAR 62). Разработан технологический процесс с подобранными параметрами, позволивший изготовить тестовые структуры интегральной фотоники.

Ключевые слова: волоконная оптика, электронно-лучевая литография, плазмохимическое травление, позитивный электронный резист.

Поступила в редакцию: 29.10.2024
Исправленный вариант: 17.12.2024
Принята в печать: 28.02.2025

DOI: 10.61011/OS.2025.03.60246.2-25