Исследование процесса голографического формирования мультиплексированных чирпированных многослойных дифракционных структур, сформированных в фотополимерном материале с жидкими кристаллами

Представлена обобщённая аналитическая модель, учитывающая временное изменение начальных условий голографического формирования вследствие фотоиндуцированного изменения оптического поглощения мультиплексированных чирпированных многослойных неоднородных голографических дифракционных структур, сформированных в фотополимерном материале с высокой долей нематических жидких кристаллов. С помощью численного моделирования было показано, что в процессе формирования каждой отдельной дифракционной решетки в каждом отдельном слое профиль показателя преломления может иметь двумерную неоднородность, которая обусловлена как фотоиндуцированным поглощением материала, так и фазовой неоднородностью записывающего излучения. Таким образом, разработанная аналитическая модель позволяет заранее определить вид профиля решеток для чирпированных многослойных голографических дифракционных структур, который необходим для более точного определения дифракционных характеристик таких структур.