Совершенствование технологии изготовления рельефных голографических решеток на бихромированном желатине, облученных коротковолновым УФ излучением

Предложен новый вариант изготовления высокочастотных голографических решеток с пространственной частотой вплоть до 1500 mm$^{-1}$ на слоях бихромированного желатина (БХЖ), из технологии обработки которого полностью исключены водные процедуры. Метод основан на применении ледяной уксусной кислоты после облучения слоев коротковолновым УФ излучением в отличие от стандартной методики обработки зарегистрированных когерентным излучением He–Cd-лазера голографических структур. В ходе экспериментов получены рельефно-фазовые голографические решетки с дифракционной эффективностью до 41% при толщине слоя БХЖ 1.1 $\mu$m и до 64%при 5.6 $\mu$m.