Аннотация:
Представлен новый метод повышения устойчивости спектральных характеристик интерференционных покрытий к отклонениям в параметрах слоев, входящих в их состав. С помощью этого метода возможно получить спектральную характеристику энергетических коэффициентов пропускания (или отражения) экспериментального изготовленного покрытия, которая максимально приближена к характеристике синтезированного. Представлен способ использования нескольких образцов для контроля толщины слоев в процессе их формирования с целью уменьшения отклонения оптических слоев в процессе изготовления интерференционных покрытий.